• Design de ultra-alta pureza: Dispõe de um acabamento de superfície de 10 Ra microinch / 0,25 micrômetros para eliminar a contaminação por gases, garantindo a conformidade com os requisitos de semicondutores, farmacêuticos e de pesquisa.
• Alta sensibilidade: Ajustes bem ajustados permitem uma regulação precisa da pressão, fundamental para aplicações como a instrumentação analítica e a cromatografia a gás.
• Baixa queda de pressão: Reduz o consumo de energia e o desgaste do sistema, aumentando a eficiência global nos processos de alto fluxo.
• Durabilidade: Construído com aço inoxidável 316L e válvulas internas Hastelloy® opcionais para resistência à corrosão em meios agressivos.

• Gestão da pressão: Entrada até 3500 psig/241 bar; saída ajustável a 150 psig/10,3 bar.
• Resistência a fugas: Baixa vazagem UL (< 10−7 mbar·L/s de hélio) para gases perigosos ou caros.
• Intervalo de temperatura: -40°C a 71°C (-40°F a 160°F) com assentos PFA de Teflon.

• Fabricação de semicondutoresDistribuição de gás em salas limpas e fabrico de wafers.
• Equipamento de laboratório: Espectrometria de massa, sistemas a laser e análise de gases.
• Manuseio de gases industriais: armários de cilindros, caixas de válvulas e abastecimento de gás especial.

• Versatilidade: Adaptável a gases corrosivos (por exemplo, NH3, Cl2) e meios inertes com configurações personalizáveis.
• Segurança: A concepção estática-dissipativa minimiza os riscos de ignição dos gases pirofóricos.
• Conformidade: Cumprir as normas USP Classe VI, BPE e ISO 17025 para fluxos de trabalho biofarmacêuticos e analíticos.

64-3600 Referência da amostra de produto da série TESCOM de reguladores de alta sensibilidade